AI 요약
반도체·디스플레이·이차전지·조선 등 한국 주력산업의 핵심기술이 산업스파이를 통해 해외로 유출되며 국가 산업경쟁력이 위협받고 있다. 삼성전자 출신 인력이 중국 CXMT로 이직해 10나노대 D램 공정기술(PRP)을 유출한 사례가 대표적이며, CXMT는 이를 발판으로 18나노 D램 양산에 성공했다. 2019~2023년 적발된 산업기술 해외유출은 96건, 피해액은 약 24조8000억원에 달한다. 국회에서도 산업기술 유출을 간첩죄로 처벌하는 법안이 발의되는 등 대응 움직임이 나오고 있다.
핵심 포인트
- 삼성전자의 10나노대 D램 공정기술 개발 비용은 1조6000억원, CXMT는 인력 영입으로 추격 시간 단축
- 2019~2023년 적발된 산업기술 해외유출 96건 중 반도체가 38건으로 최다, 피해액 약 24조8000억원
- 지난해 경찰 적발 기술유출 사건 179건으로 전년 대비 45.5% 증가, 해외유출 33건 중 중국이 18건(54.5%)
- CXMT의 올 1분기 글로벌 D램 점유율 7.6%로 전 분기(4.7%) 대비 2.9%포인트 상승
향후 전망
- 글로벌 기술패권 경쟁 심화로 첨단산업 대상 산업스파이 활동이 더욱 증가할 전망
- 간첩죄 적용 등 법적 대응 강화와 함께 소재·부품·장비 협력사까지 보안 범위 확대 필요
출처:THE Biz(더비즈)
